In der Halbleiterfertigung sind die Anforderungen an Umgebungsbedingungen und Anlagengenauigkeit im Chipherstellungsprozess extrem hoch. Bereits geringfügige Abweichungen können die Chipausbeute erheblich reduzieren. Die Präzisions-Portalplattform XYZT nutzt Granitkomponenten, die in Kombination mit anderen Plattformteilen eine solide Grundlage für die Erzielung nanometergenauer Präzision bilden.
Hervorragende Vibrationsdämpfungseigenschaften
In der Halbleiterfertigung können der Betrieb von Peripheriegeräten und die Bewegungen des Personals Vibrationen verursachen. Die Granitkomponenten zeichnen sich durch eine dichte und gleichmäßige Innenstruktur mit hohen natürlichen Dämpfungseigenschaften aus und wirken wie eine effiziente Vibrationsbarriere. Werden externe Vibrationen auf die XYZT-Plattform übertragen, dämpfen die Granitkomponenten effektiv über 80 % der Vibrationsenergie und reduzieren so die Beeinträchtigung der Bewegungsgenauigkeit der Plattform. Zusätzlich ist die Plattform mit einem hochpräzisen Luftfederungssystem ausgestattet, das mit den Granitkomponenten zusammenarbeitet. Die Luftfederung nutzt einen durch Hochdruckgas erzeugten stabilen Gasfilm, um die beweglichen Teile der Plattform kontaktlos zu lagern und die durch mechanische Reibung verursachten Vibrationen zu minimieren. Zusammen gewährleisten diese beiden Komponenten, dass die Positioniergenauigkeit der Plattform in Schlüsselprozessen wie der Chiplithografie und dem Ätzen stets im Nanometerbereich liegt und Abweichungen der Chip-Schaltungsmuster durch Vibrationen vermieden werden.
Ausgezeichnete thermische Stabilität
Die Temperatur- und Feuchtigkeitsschwankungen in der Werkstatt haben einen großen Einfluss auf die Genauigkeit der Chipfertigungsanlagen. Granit besitzt einen sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten von in der Regel 5–7 × 10⁻⁶/°C, sodass sich seine Größe bei Temperaturänderungen kaum verändert. Selbst wenn die Temperaturunterschiede zwischen Tag und Nacht in der Werkstatt oder die Wärmeentwicklung der Anlagen zu Schwankungen der Umgebungstemperatur führen, bleiben die Granitkomponenten formstabil und verhindern so eine Verformung der Plattform durch Wärmeausdehnung und -kontraktion. Gleichzeitig überwacht das mit der Plattform ausgestattete intelligente Temperaturregelungssystem die Umgebungstemperatur in Echtzeit, passt die Klimaanlage und die Wärmeabfuhr automatisch an und hält die Werkstatttemperatur konstant bei 20 °C ±1 °C. In Kombination mit der Wärmestabilität von Granit wird sichergestellt, dass die Bewegungsgenauigkeit jeder Achse der Plattform im Langzeitbetrieb stets den Nanometer-Präzisionsstandards der Chipfertigung entspricht. Dies gewährleistet eine präzise Strukturgröße der Chiplithografie und eine gleichmäßige Ätztiefe.
Den Anforderungen einer sauberen Umwelt gerecht werden
In der Halbleiterfertigung muss ein hoher Reinheitsgrad eingehalten werden, um eine Kontamination der Chips durch Staubpartikel zu verhindern. Granit erzeugt selbst keinen Staub und seine glatte Oberfläche ist wenig staubanziehend. Die gesamte Plattform ist vollständig oder halboffen konstruiert, um das Eindringen von externem Staub zu minimieren. Das interne Luftzirkulationssystem ist mit der Reinluftanlage der Werkstatt verbunden, um die für die Chipfertigung erforderliche Luftreinheit zu gewährleisten. In dieser sauberen Umgebung wird die Leistung der Granitkomponenten nicht durch Staubkorrosion beeinträchtigt, und wichtige Komponenten wie hochpräzise Sensoren und Motoren der Plattform arbeiten stabil. Dies garantiert eine kontinuierliche und zuverlässige Genauigkeit im Nanometerbereich für die Chipfertigung und unterstützt die Halbleiterindustrie bei der Weiterentwicklung ihrer Fertigungsprozesse.
Veröffentlichungsdatum: 14. April 2025