In Bereichen wie der Halbleiterfertigung und der Präzisionsmesstechnik bestimmt die Genauigkeit von Granit-Präzisionsplattformen unmittelbar die Betriebsqualität der Geräte. Um sicherzustellen, dass die Genauigkeit der Plattform den Standards entspricht, sollten zwei Aspekte berücksichtigt werden: die Erkennung von Schlüsselindikatoren und die Einhaltung von Standardnormen.
Kernindikatorenerkennung: Mehrdimensionale Kontrolle der Genauigkeit
Ebenheitserkennung: Ermittlung der „Ebenheit“ der Referenzebene
Die Ebenheit ist der wichtigste Indikator für Präzisionsplattformen aus Granit und wird üblicherweise mit Laserinterferometern oder elektronischen Wasserwaagen gemessen. Das Laserinterferometer kann durch Aussenden eines Laserstrahls und Nutzung des Prinzips der Lichtinterferenz die kleinsten Unebenheiten auf der Plattformoberfläche präzise messen, mit einer Genauigkeit im Submikrometerbereich. Die elektronische Wasserwaage misst durch mehrmaliges Bewegen und zeichnet eine dreidimensionale Konturkarte der Plattformoberfläche, um lokale Erhebungen oder Vertiefungen zu erkennen. Beispielsweise müssen die in Halbleiter-Fotolithografiemaschinen verwendeten Granitplattformen eine Ebenheit von ±0,5 μm/m aufweisen, d. h. der Höhenunterschied innerhalb einer Länge von einem Meter darf einen halben Mikrometer nicht überschreiten. Nur durch hochpräzise Messtechnik kann dieser strenge Standard gewährleistet werden.
2. Geradheitserkennung: Stellen Sie die „Geradheit“ der linearen Bewegung sicher
Bei Plattformen mit präzisen beweglichen Teilen ist die Geradheit von entscheidender Bedeutung. Gängige Erkennungsmethoden sind die Drahtmethode oder der Laserkollimator. Bei der Drahtmethode werden hochpräzise Stahldrähte aufgehängt und der Abstand zwischen Plattformoberfläche und Stahldrähten verglichen, um die Geradheit zu bestimmen. Der Laserkollimator nutzt die linearen Ausbreitungseigenschaften des Lasers, um den linearen Fehler der Montagefläche der Plattformführungsschiene zu erkennen. Entspricht die Geradheit nicht dem Standard, verschiebt sich das Gerät während der Bewegung, was die Verarbeitungs- oder Messgenauigkeit beeinträchtigt.
3. Oberflächenrauheitserkennung: Stellen Sie die „Feinheit“ des Kontakts sicher
Die Oberflächenrauheit der Plattform beeinflusst die Passgenauigkeit der Komponenteninstallation. In der Regel wird zur Erkennung ein Rauheitsmessgerät mit Tastspitze oder ein optisches Mikroskop verwendet. Das Tastinstrument erfasst die Höhenänderungen des mikroskopischen Profils, indem es die Plattformoberfläche mit einer feinen Sonde berührt. Optische Mikroskope ermöglichen eine direkte Beobachtung der Oberflächenstruktur. Bei hochpräzisen Anwendungen muss die Oberflächenrauheit von Granitplattformen auf Ra ≤ 0,05 μm kontrolliert werden. Dies entspricht einem spiegelähnlichen Effekt und gewährleistet so den festen Sitz der Präzisionskomponenten bei der Installation und verhindert Vibrationen oder Verschiebungen durch Spalten.
Die Präzisionsstandards folgen: internationale Normen und interne Kontrolle des Unternehmens
International werden derzeit die Normen ISO 25178 und GB/T 24632 häufig als Grundlage für die Genauigkeit von Granitplattformen verwendet. Es gibt klare Klassifizierungen für Indikatoren wie Ebenheit und Geradheit. Darüber hinaus legen Unternehmen der Spitzenfertigung oft strengere interne Kontrollstandards fest. Beispielsweise liegen die Ebenheitsanforderungen für die Granitplattform einer Fotolithografiemaschine 30 % über dem internationalen Standard. Bei Tests sollten die Messdaten mit den entsprechenden Normen verglichen werden. Nur Plattformen, die die Normen vollständig erfüllen, gewährleisten eine stabile Leistung von Präzisionsgeräten.
Die Prüfung der Genauigkeit von Granit-Präzisionsplattformen ist ein systematisches Projekt. Nur durch strenge Tests von Kernindikatoren wie Ebenheit, Geradheit und Oberflächenrauheit sowie die Einhaltung internationaler und unternehmensweiter Standards kann die hohe Präzision und Zuverlässigkeit der Plattform gewährleistet werden. Dies schafft eine solide Grundlage für High-End-Fertigungsbereiche wie Halbleiter und Präzisionsinstrumente.
Veröffentlichungszeit: 21. Mai 2025