In der Halbleiterindustrie ist die Waferinspektion ein Schlüsselfaktor für die Qualität und Leistung des Chips. Die Genauigkeit und Stabilität des Inspektionstisches spielen eine entscheidende Rolle für die Erkennungsergebnisse. Granitbasis mit ihren einzigartigen Eigenschaften ist die ideale Wahl für Halbleiter-Wafer-Inspektionstische und ermöglicht Ihnen die Durchführung mehrdimensionaler Analysen.
Erstens die Präzisionsgarantiedimension
1. Höchste Ebenheit und Geradheit: Die Granitbasis wird mit modernster Technologie bearbeitet. Die Ebenheit kann eine Genauigkeit von ±0,001 mm/m oder sogar noch höher erreichen, und auch die Geradheit ist hervorragend. Bei der Waferinspektion bietet die hochpräzise Ebene dem Wafer stabilen Halt und gewährleistet einen präzisen Kontakt zwischen der Sonde des Prüfgeräts und den Lötstellen auf der Waferoberfläche.
2. Sehr niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: Die Halbleiterfertigung reagiert empfindlich auf Temperaturschwankungen, und der Wärmeausdehnungskoeffizient von Granit ist extrem niedrig, üblicherweise etwa 5 × 10⁻⁶/℃. Während des Betriebs der Detektionsplattform verändert sich die Größe der Granitbasis selbst bei schwankenden Umgebungstemperaturen kaum. Beispielsweise kann in einer Hochtemperaturwerkstatt im Sommer die Temperatur der Detektionsplattform mit herkömmlicher Metallbasis die relative Position von Wafer und Detektionsgerät verschieben, was die Detektionsgenauigkeit beeinträchtigt. Die Detektionsplattform mit Granitbasis kann die Stabilität aufrechterhalten, die relative Positionsgenauigkeit von Wafer und Detektionsgerät während des Detektionsprozesses gewährleisten und eine stabile Umgebung für hochpräzise Detektion bieten.
Zweitens, Stabilitätsdimension
1. Stabile Struktur und Vibrationsfestigkeit: Granit weist nach Millionen von Jahren geologischer Prozesse eine dichte und gleichmäßige innere Struktur auf. In der komplexen Umgebung einer Halbleiterfabrik werden die durch den Betrieb von Peripheriegeräten und das Personal verursachten Vibrationen durch die Granitbasis effektiv gedämpft.
2. Langzeitgenauigkeit: Im Vergleich zu anderen Materialien weist Granit eine hohe Härte und hohe Verschleißfestigkeit auf. Die Mohshärte kann 6–7 erreichen. Die Granitbasisoberfläche verschleißt bei häufigem Be- und Entladen sowie bei Inspektionsvorgängen der Wafer nicht so leicht. Laut Datenstatistiken kann die Ebenheits- und Geradheitsgenauigkeit bei Verwendung eines Prüftisches mit Granitbasis auch nach 5000 Betriebsstunden noch über 98 % der ursprünglichen Genauigkeit betragen. Dies reduziert den Verschleiß der Basis durch regelmäßige Kalibrierungs- und Wartungszeiten, senkt die Betriebskosten und gewährleistet die langfristige Stabilität der Prüfarbeiten.
Drittens, saubere und störungsfreie Dimension
1. Geringe Staubentwicklung: Die Umgebung der Halbleiterfertigung muss hochrein sein. Granit ist stabil und staubarm. Während des Betriebs der Testplattform wird vermieden, dass der vom Sockel erzeugte Staub den Wafer verunreinigt. Das Risiko von Kurzschlüssen und Unterbrechungen durch Staubpartikel wird reduziert. Im Waferinspektionsbereich der staubfreien Werkstatt wird die Staubkonzentration rund um den Granitsockel-Inspektionstisch stets auf einem extrem niedrigen Niveau gehalten, um die strengen Sauberkeitsanforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen.
2. Keine magnetischen Störungen: Die Detektionsgeräte reagieren empfindlich auf die elektromagnetische Umgebung. Granit ist ein nicht magnetisches Material, das das elektronische Signal der Detektionsgeräte nicht stört. Bei der Elektronenstrahldetektion und anderen Prüftechnologien, die eine extrem hohe elektromagnetische Umgebung erfordern, gewährleistet die Granitbasis die stabile Übertragung des elektronischen Signals der Detektionsgeräte und gewährleistet die Genauigkeit der Prüfergebnisse. Beispielsweise verhindert die nicht magnetische Granitbasis bei der Prüfung der elektrischen Leistung des Wafers hochpräzise Störungen der Strom- und Spannungssignale, sodass die Detektionsdaten die elektrischen Eigenschaften des Wafers exakt widerspiegeln.
Veröffentlichungszeit: 31. März 2025