Die Anwendungsbereiche der Granitmontage für Geräteprodukte im Halbleiterfertigungsprozess

Granit ist ein Hartgestein, das in der Halbleiterindustrie zu einem unverzichtbaren Werkstoff geworden ist. Seine Eigenschaften ermöglichen es ihm, hohen Temperaturen standzuhalten, was ihn ideal für den Einsatz in verschiedenen Phasen der Halbleiterfertigung macht. Daher hat Granit zahlreiche Anwendungsgebiete in der Halbleiterfertigung gefunden.

Eine der am häufigsten genutzten Anwendungen der Granitmontage ist der Bau hochpräziser Werkzeugmaschinenstrukturen. Die Steifigkeit und Stabilität von Granit ermöglichen die Herstellung präziser und genauer Werkzeuge mit geringer oder gar keiner Verformung. Dieses Maß an Präzision ist bei Halbleiterherstellungsprozessen wie der Ionenimplantation erforderlich, bei der der Strahl präzise auf den Wafer gerichtet werden muss.

Eine weitere Anwendung von Granit in der Halbleiterfertigung ist der Bau von Messtechnik. Messtechnik ist in der Halbleiterfertigung unverzichtbar, da sie die Genauigkeit der produzierten Geräte misst und überprüft. Die Dimensionsstabilität, die geringe Wärmeausdehnung und die hervorragenden Schwingungsdämpfungseigenschaften von Granit machen ihn zum bevorzugten Material für den Bau von Messtechnik. Dazu gehören große Granitflächen, die bei der Bereitstellung und Inspektion von Wafern verwendet werden.

Optische Tische sind ein weiteres Anwendungsgebiet für Granitbaugruppen in der Halbleiterindustrie. Sie werden zum Testen optischer Geräte wie Wellenleitern für die Datenkommunikation eingesetzt. Dank seiner Ebenheit, geringen Wärmeausdehnung, hohen Steifigkeit und mechanischen Stabilität bietet Granit eine äußerst stabile Oberfläche für die Montage und Positionierung optischer Geräte. Optische Tische aus Granit bieten die nötige Stabilität und Steifigkeit für präzise Tests optischer Geräte.

Granit wird auch bei der Konstruktion von Wafer-Chucks und -Tischen verwendet. Bei der Halbleiterherstellung sind präzise Ausrichtung und Positionskontrolle entscheidend. Wafer-Chucks, die die Wafer während der Verarbeitung an ihrem Platz halten, müssen ihre Positionsgenauigkeit beibehalten und gleichzeitig hohen Temperaturen und Vakuumbedingungen standhalten. Granit verfügt über eine ausgezeichnete Dimensionsstabilität über einen weiten Temperaturbereich und ist vakuumbeständig, was es ideal für die Konstruktion von Wafer-Chucks macht. Tische, die zum Bewegen der Wafer von einer Position zur anderen verwendet werden, durchlaufen während eines Halbleiterherstellungsprozesses eine zyklische Bewegungssequenz. Die Granitbaugruppe bietet die nötige Stabilität und Haltbarkeit, um die kontinuierlichen und sich wiederholenden Bewegungszyklen zu überstehen.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Anwendung von Granit in der Halbleiterfertigung vielfältig ist. Seine Eigenschaften wie Dimensionsstabilität, geringe Wärmeausdehnung, hohe Steifigkeit und Schwingungsdämpfung machen ihn zu einem idealen Material für den Einsatz in verschiedenen Phasen der Halbleiterfertigung. Von der Konstruktion hochpräziser Werkzeugmaschinen und Messtechnik bis hin zu optischen Tischen, Wafer-Stufen und Spannfuttern spielen die Eigenschaften von Granit eine entscheidende Rolle für die Stabilität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit, die für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente erforderlich sind.

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Veröffentlichungszeit: 06.12.2023